研磨機未來要求

趨勢與需求：

1.製程模組化及 Compact 小型化 [6]
2.Throughput 高 [1,2]
3.穩定性高(長期) [1,2,3,4,5,7]
4.智慧型工具之整合 [6]
/ 終點偵測 / 即時 Conditioner Control
5.大尺寸、適用性( 200mm & 300mm 共用) [3]
6.價格合理及操作方便 [6]
7.不需仰賴過多的人員，作最佳化 [8]
/ 去除 Art 之迷思

[1].剛性特大、共震頻率提高數倍
[2].相對速度變異性小(0.2%)且絕對質增大
[3].沒有現在的 Gimballing Effects
/ 大尺寸之易適化 / Edge 問題之相對減輕
[4].下壓力平均化
/ 用氣壓式自適性調整控制
[5].Slurry 分布控制
[6].操作簡單、操作容易、製造成本簡化、及模組化容易
[7].Trajectory 規範與理論匹配
/ 減少 Pad 不均勻 Wear Out / 增加長期穩定研磨可靠性
[8].搭配特殊分析軟體

資料來源：
亞泰半導體設備
CMP技術/土肥俊郎